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電漿式高溫處理設備

KPL為電漿式(Plasma)高溫處理設備,最高溫度1300℃,可處理 CF4,SF6,CHF3,C2F6,NF3,SiH4,TEOS,N2O,SiH2Cl2,NH3,F2,B2H6,WF6,C3F

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KPL為電漿式(Plasma)高溫處理設備,最高溫度1300℃ ,可處理
CF4,SF6,CHF3,C2F6,NF3,SiH4,TEOS,N2O,SiH2Cl2,NH3,F2,B2H6,WF6,C3F8,C4F8,O3,BCl3,HBr
等高溫難分解的氣體,體機小而不占空間,有國際品質認證標準
 

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    KT1000FA設備採電熱水洗式設計,比一般瓦斯燃燒式機種節省耗材成 本,也不會有燃燒後產生二氧化碳的問題。其均溫性佳,處理效率較 高,台灣兩大晶圓代工廠共採購KT1000FA超過1,100台。K
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    小型VOCs處理設備,體積小安全性高, 電熱式,自家設計獨特加熱器,用電量低 環保性加,適合安裝在屋內處理,觸媒燃 燒式或直接燃燒式兩種型態皆有
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    VOC瓦斯或電熱燃燒式

    專門處理VOC (揮發性有機化合物) 一般作為清洗劑溶劑使用之苯、 甲苯、 二氯甲烷,廣泛應用於
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    VOC觸媒燃燒式

    專門處理VOC (揮發性有機化合物) 一般作為清洗劑溶劑使用之苯、 甲苯、 二氯甲烷,廣泛應用於工業中。但是釋 放

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