日本Engis氮化鋁基板拋光設備

日本Engis精密拋光專業設備及技術可針對氮化鋁等特殊脆硬等之材料施以超精密拋光加工，適用於業界最高規格要求。

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日本Engis超精密拋光專業設備及技術可針對特殊
脆硬等材料施以超精密拋光加工，因應業界最高
規格要求。

氮化鋁之特殊脆硬材料已使用於半導體設備製程
零組件以及LED散熱用的氮化鋁基板，目前日本
國內廠商大多採用日本Engis之超精密拋光設備及
技術進行拋光加工。現在日本國內之LED散熱用
的氮化鋁基板要求面粗度需要達到Ra＜3nm，而
日本Engis以超高拋光技術並搭配優異Lapping製程
，在兩道拋光製程下已經可達到3nm以下，並可
依客戶實際需求加以研發新的拋光製程，而且可
以解決客戶在氮化鋁(AlN)基板拋光技術及製程上
之盲點。

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